uv光催化氧化設備維護時要注意的事項

光催化通常是指物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產物生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指物分子吸收光能后進一步發生的化學反應。后者是周圍環境存在的某些物質吸收光能成激發態，再誘導一系列污染的反應。間接光降解對環境中難生物降解的污染物愈為重要。

利用光化學反應降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過photo-Fenton反應產生HO使污染物得降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加量的光敏半導體材料，同時結合量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發產生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產生HO等氧化性不錯的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式污染物全部或接近全部礦化。

uv光催化氧化設備的特點：

1、速率好性：光催化氧化驅臭設備能速率好去掉揮發性物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭速率不錯可達%，遠超過惡臭污染物排放標(GB14554-93)。

2、無需預處理：光催化氧化驅臭設備惡臭氣體無需進行特別的預處理，如加溫、加濕等，驅臭設備工作環境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在30%-80%、PH指在3-11之間均可正常工作。

3、無需添加任意物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過光催化廢氣處理設備進行脫臭分解凈化，無需添加任意物質參與化學反應。

4、運行成本還行：光催化驅臭設備去任意機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需定期檢查，本設備能耗低，(每處理廢氣風量為1000立方米/小時，僅耗電約0。2度電能)，設備風阻低<100pa。

5、光解作用：UV-C紫外線C波段(254nm)光束輻射小顆粒分子(由氨基酸組成的蛋白質分子，由脂肪酸組成的脂肪分子，由糖組成的淀粉分子，還有維生素分子、礦物質分子)將油脂分子鏈切斷，改變油脂的分子結構揮發性物易受UV-C的攻擊。

6、氧化作用：UV-C紫外線C波段(185nm)在工作時與空氣中的氧氣反應生成臭氧。臭氧是一種強氧化劑，對氣體中的醇類、酯類、酮類、醛類、醚類、苯類等分子氧化分解成如水蒸氣和二氧化碳等沒有危害的化合物。臭氧和OH同化合物反應并改變它們。

uv光催化氧化設備維護時要注意的事項：

1、需要認真執行各項規章制度

要嚴格遵守上述規程外，還應有一套適合自己實際情況的運行管理制度，如崗位責任制度，交接班制度，檢測制度，設備維護、檢修制度，健康檢查制度，質量檢驗制度和經濟核算制度等。

2、改成要嚴格遵守廢氣處理工藝技術規程、穩定規程和崗位操作規程，這些規程是組織生產與進行操作的基本法規，是從生產和實踐中總結出來的規律性的東西。嚴格遵守這些法規是日常運行中重要的一條原則。

3、需要要強調各工種的相互配合，生產中往往因廢氣處理設備輔助工作發生錯誤而影響生產的正常運行，如分析的錯誤將引起加料量和物料成分的改變；儀表的指示錯誤會欺騙操作人員，使得實際操作條件偏離工藝規程的要求。電器故障和設備故障也會引起生產的不正常。