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UV光催化氧化設(shè)備因其本身較好的凈化效率,已成為很多廠家處理廢氣的選擇,受到很多用戶(hù)的喜愛(ài),關(guān)于設(shè)備的清洗工作,是設(shè)備保養(yǎng)中重要的一部分,下面是對(duì)UV光催化氧化設(shè)備清洗方法的介紹。
1、UV光催化氧化設(shè)備在清洗的時(shí)候,使用一般的清洗劑就可以,盡量將溫度控制在45攝氏度左右,使用清洗劑沖洗干凈后,然后用清水進(jìn)行沖刷,等設(shè)備干燥后邊防正常使用。
2、設(shè)備的清洗周期,一般情況下是在一個(gè)季度左右,設(shè)備清洗的越頻繁,凈化效率則會(huì)越高,如設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間的不進(jìn)行清洗,會(huì)造成設(shè)備的凈化效率降低,還會(huì)使設(shè)備存在很多其它危險(xiǎn)。
3、UV光催化氧化設(shè)備清洗的主要流程是切斷電源,如在不切斷電源的情況下對(duì)設(shè)備進(jìn)行清洗,會(huì)存在很大的危險(xiǎn)。另外廠家在每款設(shè)備出廠之前,都會(huì)附帶一些使用說(shuō)明及維護(hù)說(shuō)明,只要按照上面的介紹進(jìn)行可以了。
在uv光催化氧化設(shè)備的日常使用過(guò)程中,對(duì)設(shè)備進(jìn)行正確的清洗工作,能使設(shè)備本身發(fā)揮出大的使用效率,還會(huì)延長(zhǎng)設(shè)備的使用時(shí)間。